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增材制造專用激光分析系統 集成CCD 光束分析儀直接探測高功率激光的光斑，以及一臺功率計用于實時監測測量激光的功率。特殊的分束系統使其可以直接用于高功率激光，極小部分功率被分配給光束分析儀進行光斑分析

非接觸式大功率激光焦點分析儀 OPHIR*的BeamWatch 非接觸式輪廓分析儀通過測量瑞利散射，精確捕獲和分析波長范圍為980nm - 1080nm 的高功率工業激光。

激光全自動M2分析儀 BeamSquared 包含自動衰減器、束腰生成鏡、反射鏡和相機四大部分。精密準直的雙程直線掃描光路提供在較短空間內的長行程快速掃描，配合不同的透鏡、探測器覆蓋寬范圍的波段。

狹縫掃描光束分析儀NanoScan 2， 源自2010 年加入OPHIR 集團的PHOTON INC。PHOTON INC 自1984 年開始研發生產掃描式光束分析儀，在光通訊、LD/LED 測試等領域享有盛名。掃描式與相機式光斑分析儀的互補聯合使得OPHIR可提供完備的光束分析解決方案

衰減器 可變衰減片采用兩片漸變式中性密度濾光片，在衰減率可連續調節的同時，確保通光孔徑內衰減率均勻分布。

LBS-300衰減組合（分光+ 衰減） 組合式衰減器集成了分光器和可變中型密度濾光片，可直接旋接在相機上使用。